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较石墨和金刚石的晶体结构

发布日期:2020-06-25 12:55 作者:龙八国际pt老虎机

  较石墨和金刚石的晶体结构、结合键和性能。 答:金刚石晶体结构为带四面体间隙的 FCC,碳原子位于 FCC 点阵的结合点和四个不 相邻的四面体间隙位置,碳原子之间都由共价键结合,因此金刚石硬度高,结构致密。石墨晶体结构为 简单六方点阵,碳原子位于点阵结点上,同层之间由共价键结合,邻层之间由范德华力结合,因此石墨 组织稀松,有一定的导电性,常用作润滑剂。 1. 单晶体:如果一个物体就是一个完整的晶体,这样的晶体~单晶体. 单晶体:如果一个物体就是一个完整的晶体,这样的晶体 单晶体 单晶体. 水晶、雪花、食盐小颗粒、单晶硅、 水晶、雪花、食盐小颗粒、单晶硅、晶须 2 多晶体: 多晶体: 如果整个物体是由许多杂乱无章地排列着的小晶体组成的, 这样的物体~多晶体 多晶体, 如果整个物体是由许多杂乱无章地排列着的小晶体组成的, 这样的物体 多晶体, 其中的小晶体叫做晶粒,其边界称为晶界 多晶体有一定的熔点。 晶界, 其中的小晶体叫做晶粒,其边界称为晶界,多晶体有一定的熔点。各向同性 金属及合金等. 金属及合金等 3 非晶体:没有规则的几何形状,原子在三维空间内不规则排列。长程无序,各向同性。 非晶体:没有规则的几何形状,原子在三维空间内不规则排列。长程无序,各向同性。 常见的非晶体有:玻璃、蜂蜡、松香、沥青、橡胶等. ?常见的非晶体有:玻璃、蜂蜡、松香、沥青、橡胶等. 扩散定理 单位时间内通过垂直于扩散方向的单位截面积的物质量(扩散通量) 单位时间内通过垂直于扩散方向的单位截面积的物质量(扩散通量)与该物质在该 面积处的浓度梯度成正比 。 为扩散通量,表示扩散物质通过单位截面的流量, 方向的浓度梯度; 为扩散通量,表示扩散物质通过单位截面的流量,dC/dx 为沿 x 方向的浓度梯度;D 为原子 的扩散系数。负号表示扩散由高浓度向低浓度方向进行。 的扩散系数。负号表示扩散由高浓度向低浓度方向进行。 层错能 金属结构在堆垛时,没有严格的按照堆垛顺序,形成堆垛层错。层错是一种晶格 缺陷,它破坏了晶体的周期完整性,引起能量升高,通常把单位面积层错所增加的能 量称为层错能。 层错能出现时仅表现在改变了原子的次近邻关系,几乎不产生点阵畸变。所以, 层错能相对于晶界能而言是比较小的。层错能越小的金属,则层错出现的几率越大。 在层错能较高的金属如铝及铝合金、纯铁、铁素体钢(bcc)等热加工时,易发 生动态回复,因为这些金属中易发生位错的交滑移及攀移。而奥氏体钢(fcc)、镁及其 合金等由于层错能低,不发生位错的交滑移,所以动态再结晶成为动态软化的主要方 式。 面心立方的密排面 晶体中原子的堆垛方面心立方晶格的金属 铝(Al)、 (Cu)、 (Ni)、 (Au)、 (Ag)、 - 铁( γ-Fe, 912℃~ 面心立方晶格的金属: 面心立方晶格的金属 、 铜 、 镍 、 金 、 银 、 γ ℃ 1394℃) ℃ 式 n 面心立方:密排面为{111} A BCABCABC…… 点阵常数与原子半径 R 的关系 晶胞棱边的长度称为点阵常数或晶格常数。对立方晶系,a=b=c,点阵常数用 a 表示即可; 对六方晶系,a1=a2=a3?c,需要用 a 和 c 两个点阵常数来表示晶胞的大小。 1.面心立方: – 最密排方向110 – 即面对角线方向 原子半径为 面心立方晶格 (1)晶胞中的原子数 面心立方晶体每个角上的原子只有 1/8 个属于这个晶胞,六个面中心的原子只有 1/2 属于这个晶胞,所 以面心立方晶胞中的原子数为 8*1/8+1/2x6=4. (2)原子半径 在面心立方晶胞中,只有沿着晶胞六个面的对角线方向,原子是互相接触的,面对角线 个原子半径的长度相等,所以面心立方晶胞的原子半径 (3)配位数 所谓配位数是指晶体结构中 与任一个原子最近的原子得数目.面心立方晶格的配位数位 12. (4)致密度 面心立方晶格的致密度为: . . (5)原子密排面和密排排方向:密排面 {111};密排方向: 110 (6)原子堆垛方式 原子面的空隙是有三个原子所构成的,原子排列较为紧密,原子堆垛方式为 abcabc. 半导体 材料的电阻率界于金属与绝缘材料之间的材料。 这种材料在某个温度范围内随温度升高而增 加电荷载流子的浓度,电阻率下降半导体(semiconductor),指常温下导电性能介于导体 (conductor)与绝缘体(insulator)之间的材料。半导体在收音机、电视机以及测温上有着广泛 的应用。 。半导体材料的制造 为了满足量产上的需求, 半导体的电性必须是可预测并且稳定的, 因此包括掺杂物的纯 度以及半导体晶格结构的品质都必须严格要求。常见的品质问题包括晶格的错位 (dislocation) 、双晶面(twins) ,或是堆栈错误(stacking fault)都会影响半导体材料的特 性。对于一个半导体元件而言,材料晶格的缺陷通常是影响元件性能的主因。 目前用来成长高纯度单晶半导体材料最常见的方法称为裘可拉斯基制程(Czochralski process)。这种制程将一个单晶的晶种(seed)放入溶解的同材质液体中,再以旋转的方 式缓缓向上拉起。在晶种被拉起时,溶质将会沿着固体和液体的接口固化,而旋转则可让溶 质的温度均匀。 密排面和密排方向 不同晶体结构中不同晶面、不同晶向上原子排列方式和排列密度不一样。 在体心立方晶格中,原子密度最大的晶面为{110}, 称为密排面; 称为密排方向。 在面心立方晶格中, 密排面为{111}, 密排方向为110。 密排六方,原子密排面和密排排方向:密排面:{0001};密排方向:[1120] 原子密度最大的晶向为111,


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